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  • 电子元件、电路用清洗剂

    电子元件、电路用清洗剂

    组分配比/%1.2—二氯—1,1—二氟乙烷0.01.1.2-三氯三氟乙烷0.0产品特点该清洗剂用于半导体装置和电路生产中清洗,具有去污力好和不易燃的特点。(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。)

    清洗剂|2022-02-11
  • 无线电电子仪表用清洗剂

    无线电电子仪表用清洗剂

    组分配比/%碳酸钠0三聚磷酸钠0有机硅共聚物0芥菜汁0水余量产品特点该清洗剂能清去松香熔剂,去污力高,还有防腐蚀性能。 配方九电子元件、电路用清洗剂。(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。)

    清洗剂|2022-02-11
  • 松香熔剂清洗剂三

    松香熔剂清洗剂三

    组分配比/%三聚磷酸钠0C10~18脂肪醇聚氧乙烯醚0二氯甲烷0乙醇0水0制法:将三聚磷酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醍置于容器中,注入一半水,加热至0~0度,在搅拌下溶解。当溶液冷却至0〜0度后,搅拌下加入预先配好的*的*溶液,加入另一半水,搅拌均匀即可使用。(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制

    清洗剂|2022-02-11
  • 松香熔剂清洗剂配方二

    松香熔剂清洗剂配方二

    组分配比/%1,1,2 -三氯-1,2,2 -三氟乙烷                  0C10~16脂肪酸单乙醇酰胺                    0表面活性剂                                           0乙醇或异丙醇                            &nb

    清洗剂|2022-02-11
  • 电子仪器清洗剂

    电子仪器清洗剂

    组分组分十二烷基苯磺酸钠0.0甲撑双蔡磺酸二钠(润滑剂)0.0氢氧化钾0.0三聚磷酸钠0.0硅酸钠0.0水0.0产品特点本配方清洗剂专门用于无线电电子仪器的清洗。清洗效果好,防腐,润滑。(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。)

    清洗剂|2022-02-10
  • 松香熔剂清洗剂

    松香熔剂清洗剂

    组分配比/%碳酸钠                                  0.0三聚磷酸钠                           0.0有机硅共聚物                        0.0芥酸                                   

    清洗剂|2022-02-10
  • 硅片清洗剂配方

    硅片清洗剂配方

    组分                   配比/%磷酸钾                     0二磷酸钾                            0三聚磷酸钾                           0异丙基苯磺酸钠            0十二烷基苯磺酸钠     

    清洗剂|2022-02-10
  • 电子器件油垢清洗剂

    电子器件油垢清洗剂

    组分                                         配比/%C1O~18脂肪醇聚氧乙烯醍0.0邻羟基苯甲酸                            0.0 - 0.0水                                       余量产品特点本清洗剂不含难

    清洗剂|2022-02-10
  • 电子产品清洗剂配方(1)

    电子产品清洗剂配方(1)

    阳极杂质清洗剂组分                            配比/%三聚磷酸钠          0.0十二烷基苯磺酸钠       0.0水                          余量产品特点该产品主要是清洗阳极化铝上的杂质,对被洗物不产生腐 蚀。使用的水中可加入Ni(N03)2,以便能提供0.3%的附Ni2+。

    清洗剂|2022-02-10
  • 电子产品清洗剂及清洗方法

    电子产品清洗剂及清洗方法

    污染物对电子设备的制造和操作影响很大。尤其近来发展高密度微型电子设备,一个元件比一粒尘埃还小,因而微粒污染物的影响很大。在电子设备或线路上,即使有微量的金属屑粒,后果也将是严重的。

    清洗剂|2022-02-10
  • 玻璃清洗剂配方

    玻璃清洗剂配方

    该清洗剂适用于清洗各种玻璃表面。

    清洗剂|2022-02-09
  • 酸性除锈清洗剂配方

    酸性除锈清洗剂配方

    组分 配比/%水0.0MONATERCE LF - 945(改性咪哇嘛两性活性剂)                  0.0氟氢化铉                                                                            0.0产品特点清洗剂配方中,MONATERCE LF-945有效润湿表面,

    清洗剂|2022-02-09
  • 酸性除锈剂配方

    酸性除锈剂配方

    组分配比/%氨基磺酸0.0羟基乙酸0.0丁基溶纤剂0.0水0.0MACKAM 2CSF(椰油两性二丙酸盐)0.0(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。)

    清洗剂|2022-02-09
  • 除锈剂配方二

    除锈剂配方二

    组分配比/%MACKAM 2CYSF(辛基两性二丙酸盐)0.0三乙醇胺0.0KOH(45%)0.0水  0.0(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。)

    清洗剂|2022-02-09
  • 除锈除垢剂配方

    除锈除垢剂配方

    在日常清洁中,很多时候涉及除锈除垢工作,如水壶、暖 瓶、热水器、洗碗机以及水杯、热水杯的清洗。除锈除垢剂可用酸作主洗剂,也可用碱作主洗剂,但通常以酸居多。除锈除垢剂常由酸(或碱)、缓蚀剂、表面活性剂组成,其 配方要点是酸与缓蚀剂的选择。配方一泡沫酸性清洗剂组分配比/%水                             

    清洗剂|2022-02-09
  • 高浓缩低泡清洗剂配方

    高浓缩低泡清洗剂配方

    浓缩低泡铝清洗剂组分           配比%水           0.0焦磷酸钾(100%)            0.0无水偏硅酸钠MONANF -10(烷基烷氧基烷酸钾)  0.0产品特点浓缩低泡铝清洗剂本品外观为清液,其浊点为88龙。配方中,MONANF-10易于置换污垢,并提供极好的漂洗性,非常适于喷射和蒸汽清洗系统。(注意:以上数据组分及配比只做

    清洗剂|2022-02-09
  • 高泡酸性清洗剂/铝光亮剂配方

    高泡酸性清洗剂/铝光亮剂配方

    组分                                     配比/ % 水    0.0 盐酸(37%) 0.0 磷酸(85%) 0.0 MONATERIC 1188M(月桂酰胺二丙酸二钠) 0.0产品特点本产品外观清液。在此光亮/清洗剂配方中,MONATERIC H88M提供润湿、清洗和高泡性能。(注意:以上数据组分及配比只做为探讨和交流,不代表我司产品配方依据和

    清洗剂|2022-02-09
  • 低温铝材清洗剂配方一

    低温铝材清洗剂配方一

    通常,铝的保护主要通过控制清洗剂的pH值(一般为中性至弱碱性)和缓蚀剂来取得。低温铝材清洗剂配方组分配比%水 0.0 丁基卡必醇(二乙二醇丁酸) 0.0 无水偏硅酸钠 0.0 MONANF - 10(烷基烷氧基烷酸钾) 0.0 焦磷酸钠(粉) 0.0 产品特点本产品外观为清液,pH值为12. 8。其中MONANF-10提供极好的清洗性能,控制泡沫,同时保护铝。(注意:以上数据组分及配比只

    清洗剂|2022-02-09
  • 食品加工设备清洗剂

    食品加工设备清洗剂

    食品加工设备,尤其是乳品设备,对清洗剂要求很严格。这是因为所加工的产品或乳品直接供人们食用,加工设备必须符合国家规定的食品卫生条件。因此,除所加工物—食品和乳品应经过清洗,更重要的是加工设备也必须经常清洗。尤其是一些易腐败变质的乳品,每次停车和开车,都应清洗管道和设备,保证加工食品、乳品不带入杂质和细菌。下面重点介绍几种专用的食品

    清洗剂|2022-02-08
  • 重垢清洗剂

    重垢清洗剂

    重垢清洗剂按外形分类还有块状、片状和乳液状清洗剂。块状清洗剂外形与皂块相似,质地细腻光滑,硬度适宜,在清洗使用时,耐磨不开裂,直至耗尽仍保持块状。产品分两类,一类的活性成分完全为合成表面活性剂;另一类的活性成分为合成表面活性剂和肥皂的混合物。由于合成表面活性剂没有像肥皂那样适于制成条块状使用的物理性能,故在制造块状清洗剂时需加入大量

    清洗剂|2022-02-08